Lasera gaso

Lasera gaso estas ĉefe uzata por lasera kalcinado kaj litografia gaso en la elektronika industrio. Profitante de la novigado de poŝtelefonaj ekranoj kaj la vastiĝo de aplikaj areoj, la skalo de la merkato por malalt-temperatura polisilicio plu vastiĝos, kaj la lasera kalcinada procezo signife plibonigis la rendimenton de TFT-oj. Inter la neonaj, fluoraj kaj argonaj gasoj uzataj en la ArF-ekscimera lasero por fabrikado de duonkonduktaĵoj, neono konsistigas pli ol 96% de la lasera gasmiksaĵo. Kun la rafinado de duonkonduktaĵa teknologio, la uzo de ekscimeraj laseroj pliiĝis, kaj la enkonduko de duobla eksponada teknologio kaŭzis akran kreskon en la postulo je neona gaso konsumata de ArF-ekscimeraj laseroj. Profitante de la antaŭenigo de la lokalizo de elektronikaj specialaj gasoj, hejmaj fabrikantoj havos pli bonan merkatan kreskospacon en la estonteco.

Litografia maŝino estas la kerna ekipaĵo de duonkonduktaĵa fabrikado. Litografio difinas la grandecon de transistoroj. La kunordigita disvolviĝo de la litografia industria ĉeno estas la ŝlosilo al la sukceso de litografiaj maŝinoj. La kongruaj duonkonduktaĵaj materialoj, kiel fotorezisto, fotolitografia gaso, fotomasko, kaj tegaĵaj kaj elvolvaj ekipaĵoj, havas altan teknologian enhavon. Litografia gaso estas la gaso, kiun la litografia maŝino generas per profunda ultraviola lasero. Malsamaj litografiaj gasoj povas produkti lumfontojn de malsamaj ondolongoj, kaj ilia ondolongo rekte influas la rezolucion de la litografia maŝino, kiu estas unu el la kernoj de la litografia maŝino. En 2020, la totalaj tutmondaj vendoj de litografiaj maŝinoj estos 413 unuoj, el kiuj ASML-vendoj 258 unuoj konsistigis 62%, Canon-vendoj 122 unuoj konsistigis 30%, kaj Nikon-vendoj 33 unuoj konsistigis 8%.