Hidrogena Klorido (HCl)

Teknikaj Parametroj:

Hidrogena klorido havas la kemian formulon HCl. Hidrogena klorida molekulo konsistas el kloratomo kaj hidrogenatomo. Ĝi estas senkolora gaso kun akra odoro. Koroda, nebrulebla gaso, ne reagas kun akvo sed estas facile solvebla en akvo. Ĝi ofte ĉeestas en la aero en formo de klorida acidaj vaporoj. Hidrogena klorido estas facile solvebla en etanolo kaj etero, kaj ankaŭ solvebla en multaj aliaj organikaj substancoj; tre facile solvebla en akvo, je 0°C, 1 volumeno da akvo povas solvi proksimume 500 volumojn da hidrogena klorido. Ĝia akva solvaĵo estas ofte konata kiel klorida acido, kaj ĝia scienca nomo estas klorida acido. Koncentrita klorida acido estas volatila. Hidrogena klorido estas senkolora, kun frostopunkto de -114,2 °C kaj bolpunkto de -85 °C. Ĝi ne brulas en la aero kaj estas termike stabila. Ĝi ne malkomponiĝas ĝis ĉirkaŭ 1500 °C. Ĝi havas sufokan odoron, havas fortan koleron al la supra spira vojo, kaj estas koroda al okuloj, haŭto kaj mukozoj. La denseco estas pli granda ol aero. La kemiaj propraĵoj de seka hidrogena klorido estas tre neaktivaj. Alkalaj metaloj kaj alkalaj teraj metaloj povas bruli en hidrogena klorido, kaj kiam natrio brulas, ĝi elsendas brilflavan flamon. Hidrogena klorido estas uzata en la petrolkemia industrio por antaŭenigi la efikecon kaj regeneradon de kataliziloj kaj pliigi la viskozecon de nafto; ĝi povas esti uzata por produkti klorosulfonan acidon, sintezan kaŭĉukon, ktp.; ĝi ankaŭ povas esti uzata por fari tinkturfarbojn, aromojn, drogsintezon, diversajn kloridojn kaj korodajn inhibilojn, kaj purigi, Pikling, electroplating metalo, tanado, rafinado aŭ fabrikado de malmola metalo. Altpura hidrogena klorida gaso estas vaste uzata en silicia epitaksia kresko, vaporfaza polurado, akvaforto, akvaforto kaj purigado en la elektronika industrio.

Apliko:

①Materialo:

Plej multe de la hidrogena klorido estas uzata en la produktado de klorida acido. Ĝi ankaŭ estas grava reakciilo en aliaj industriaj kemiaj transformoj.

②Semikonduktaĵo:

En la semikonduktaĵindustrio, ĝi kutimas kaj gravuri semikonduktaĵkristalojn kaj purigi silicion per triklorosilano (SiHCl3).

③Laboratorio:

En la laboratorio, anhidraj formoj de la gaso estas precipe utilaj por generado de klorid-bazitaj Lewis-acidoj, kiuj devas esti absolute sekaj por siaj Lewis-ejoj por funkcii.

Normala pako:

Avantaĝoj:

①Alta pureco, plej nova instalaĵo;

② Fabrikisto de atestilo ISO;

③Rapida livero;

④Enreta analiza sistemo por kvalito-kontrolo en ĉiu paŝo;

⑤Alta postulo kaj skrupula procezo por manipuli cilindron antaŭ plenigo;