Malmultekosta Prezolisto por Specialaj Gasoj Ĉinia Provizo de Elektrona/Duonkondukta Grado 99.999% Pureco Karbona Tetrafluorido/Tetrafluorometano CF4 Gaso Prezo

"Sincereco, Novigado, Rigoreco kaj Efikeco" estas la persista koncepto de nia organizo por longdaŭra establi kune kun klientoj reciprokan reciprokecon kaj reciprokan profiton por Malmultekosta Prezolisto por Specialaj Gasoj Ĉinia Provizo de Elektrona/Duonkondukta Grado 99.999% Pureco Karbona Tetrafluorido/Tetrafluorometano CF4-Gasa Prezo. Estante juna kreskanta kompanio, ni eble ne estas la plej bonaj, sed ni klopodas nian plej bonan por esti via bonega partnero.
"Sincereco, Novigado, Rigoreco kaj Efikeco" povas esti la persista koncepto de nia organizo por tiu longdaŭra establi kune kun klientoj por reciproka reciprokeco kaj reciproka profito porĈinio CF4 kaj CF4-gaso"Krei Valorojn, Servi Klienton!" estas la celo, kiun ni celas. Ni sincere esperas, ke ĉiuj klientoj establos longdaŭran kaj reciproke utilan kunlaboron kun ni. Se vi deziras ricevi pliajn detalojn pri nia kompanio, nepre kontaktu nin nun!

Teknikaj Parametroj

Karbona tetrafluorido estas halogenigita hidrokarbono kun la kemia formulo CF4. Ĝi povas esti konsiderata kiel halogenigita hidrokarbono, halogenigita metano, perfluorokarbono, aŭ kiel neorganika kombinaĵo. Karbona tetrafluorido estas senkolora kaj senodora gaso, nesolvebla en akvo, solvebla en benzeno kaj kloroformo. Stabila sub normala temperaturo kaj premo, evitu fortajn oksidantojn, flamiĝemajn aŭ brulemajn materialojn. Nebrulema gaso, la interna premo de la ujo pliiĝos kiam eksponita al alta varmo, kaj ekzistas danĝero de fendado kaj eksplodo. Ĝi estas kemie stabila kaj nebrulema. Nur likva amoniako-natria metala reakciilo povas funkcii je ĉambra temperaturo. Karbona tetrafluorido estas gaso, kiu kaŭzas la forcejan efikon. Ĝi estas tre stabila, povas resti en la atmosfero dum longa tempo, kaj estas tre potenca forceja gaso. Karbona tetrafluorido estas uzata en la plasma gravura procezo de diversaj integraj cirkvitoj. Ĝi ankaŭ estas uzata kiel lasera gaso, kaj estas uzata en malalttemperaturaj fridigaĵoj, solviloj, lubrikaĵoj, izolaj materialoj, kaj malvarmigaĵoj por infraruĝaj detektiloj. Ĝi estas la plej uzata plasma gravura gaso en la mikroelektronika industrio. Ĝi estas miksaĵo de tetrafluorometana altpureca gaso kaj tetrafluorometana altpureca gaso kaj altpureca oksigeno. Ĝi povas esti vaste uzata en silicio, silicia dioksido, silicia nitrido kaj fosfosilikata vitro. La gravurado de maldikaj filmmaterialoj kiel volframo kaj tungsteno ankaŭ estas vaste uzata en la surfaca purigado de elektronikaj aparatoj, produktado de sunĉeloj, lasera teknologio, malalttemperatura fridigo, likkontrolo kaj lesivo en la produktado de presita cirkvito. Uzata kiel malalttemperatura fridigaĵo kaj plasma seka gravura teknologio por integraj cirkvitoj. Antaŭzorgoj por stokado: Stoku en malvarmeta, ventolita nebrulema gasstokejo. Tenu for de fajro kaj varmofontoj. La stoka temperaturo ne superu 30 °C. Ĝi estu stokita aparte de facile (brulemaj) brulaĵoj kaj oksidantoj, kaj evitu miksitan stokadon. La stoka areo estu ekipita per ekipaĵo por kriz-traktado de likoj.

Apliko:

① Fridigaĵo:

Tetrafluorometano foje estas uzata kiel malalt-temperatura fridigaĵo.

② Gravurado:

Ĝi estas uzata en elektronika mikrofabrikado sole aŭ en kombinaĵo kun oksigeno kiel plasma gratanto por silicio, siliciodioksido kaj silicionitrido.

Normala pakaĵo:

Avantaĝo:

①Alta pureco, plej nova instalaĵo;

② ISO-atestilo-fabrikisto;

③Rapida liverado;

④Interreta analiza sistemo por kvalito-kontrolo en ĉiu paŝo;

⑤Alta postulo kaj zorgema procezo por manipulado de cilindro antaŭ plenigo;